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 日本高亮度光科學(xué)研究中心（JA SRI理化學(xué)研究所及神島化學(xué)工業(yè)公司組成的研究小組，研究小組利用X光機(jī)轉(zhuǎn)換為可見光。勝利開發(fā)出能分辨200納米結(jié)構(gòu)的高分辨率X光成像探測(cè)器。這款X光探測(cè)器擁有全球最高的分辨率，能獲得前所未有的高精細(xì)X光圖像。

開發(fā)了無接合層的5微米厚透明薄膜閃爍體，大幅提高了光學(xué)特性，實(shí)現(xiàn)了接近X光安檢機(jī)成像理論極限的200納米分辨率。利用該探測(cè)器，研究小組勝利拍攝了超大規(guī)模集成電路（VLSI器件內(nèi)部300納米寬的布線。這是全球首次以實(shí)用水平畫質(zhì)無損拍攝出VLSI內(nèi)部的微細(xì)布線。